Operation Manual

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Exposition
Mesure Mesure de l’exposition TTL à l’aide du capteur RVB
doté d’environ 91K (91000) photosites
Méthode de mesure • Matricielle : mesure matricielle couleur 3D III
(objectifs de type G, E et D) ; mesure matricielle
couleur III (autres objectifs à microprocesseur) ;
mesure matricielle couleur disponible avec les
objectifs sans microprocesseur si l’utilisateur
précise les données de l’objectif
• Pondérée centrale : la mesure est effectuée à 75%
environ sur un cercle de 12 mm au centre du cadre.
Le diamètre de ce cercle peut aussi être défini sur 8,
15 ou 20 mm, ou la pondération peut se faire sur
une moyenne de l’ensemble du cadre (les objectifs
sans microprocesseur utilisent le cercle de 12 mm)
• Spot : la mesure s’effectue sur un cercle de 4 mm
(environ 1,5 % du cadre) centré sur le point AF
sélectionné (sur le point AF central en cas
d’utilisation d’un objectif sans microprocesseur)
• Pondérée sur les hautes lumières : disponible avec les
objectifs de type G, E et D ; équivalant à la mesure
pondérée centrale lors de l’utilisation d’autres
objectifs.
Plage (100 ISO, objectif
f/1.4, 20°C)
• Mesure matricielle, pondérée centrale ou pondérée sur les
hautes lumières : 0–20 IL
• Mesure spot : 2–20 IL
Couplage de la mesure
d’exposition
Microprocesseur et AI couplés
Mode d’exposition Auto programmé avec décalage du programme (e);
Auto à priorité vitesse (f) ; Auto à priorité ouverture
(g); Manuel (h)
Correction d’exposition –5 – +5 IL par incréments de
1
/ 3,
1
/ 2 ou 1 IL
Bracketing de
l’exposition
2–9 vues par incréments de
1
/ 3,
1
/ 2,
2
/ 3 ou 1 IL ;
2–5 vues par incréments de 2 ou 3 IL
Bracketing du flash 2–9 vues par incréments de
1
/ 3,
1
/ 2,
2
/ 3 ou 1 IL ;
2–5 vues par incréments de 2 ou 3 IL
Bracketing de la balance
des blancs
2–9 vues par incréments de 1, 2 ou 3